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熱絲CVD設備研發設施在公司實驗室內配置了具有高度安全性的監測系統用于監控和處理各類危險有毒氣體，比如硅烷等。(1)大面積團簇型薄膜沉積系統：最大襯底面積可達30厘米×40厘米，具有6個PECVD腔室（配有射頻，甚高頻電源以及具有脈沖
