磁控濺射系統設備在目前鍍膜行業中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業都會有使用到。我們平日生產的時候都是由機器生產，那么大家知道目前的磁控濺射系統設備主要的(de)濺射(she)(she)方(fang)式(shi)有哪幾種么(me)？下面小編就來給大家講(jiang)講(jiang)磁控鍍(du)膜設備的(de)濺射(she)(she)方(fang)式(shi)。

磁控濺(jian)射鍍膜設備原(yuan)理解析

主要的(de)磁控濺(jian)射(she)(she)鍍膜設備可以(yi)(yi)(yi)根據其(qi)特(te)征(zheng)分為以(yi)(yi)(yi)下四種：（1）直流濺(jian)射(she)(she)；（2）射(she)(she)頻(pin)濺(jian)射(she)(she)；（3）磁控濺(jian)射(she)(she)；（4）反應濺(jian)射(she)(she).另外,利用(yong)各種離子束源也可以(yi)(yi)(yi)實(shi)現薄膜的(de)濺(jian)射(she)(she)沉積.

現(xian)在的直流(liu)濺(jian)射（也叫二級濺(jian)射）較(jiao)少用到,原(yuan)因是濺(jian)射氣壓較(jiao)高,電壓較(jiao)高,濺(jian)射速率小(xiao),膜層(ceng)不穩定等缺點.

直流濺(jian)射(she)(she)發展后(hou)期,人們在其表面加上(shang)(shang)一(yi)定磁(ci)場(chang),磁(ci)場(chang)束縛住自由電子(zi)后(hou),以(yi)上(shang)(shang)缺(que)點(dian)均有所改(gai)善,也(ye)是現(xian)階(jie)段廣泛應用的(de)一(yi)種濺(jian)射(she)(she)方法。

而后又有中(zhong)頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材中(zhong)毒等現象.

而射頻濺(jian)射是(shi)很高頻率(lv)下對靶材的濺(jian)射,不(bu)易放電、靶材可任(ren)選金屬或者(zhe)陶瓷等材料.沉(chen)積(ji)的膜層(ceng)致密,附著力良好.

如果尋找本(ben)質區別是(shi)：直流濺(jian)射(she)是(shi)氣(qi)體放電的(de)前期,而射(she)頻是(shi)后期,我們最(zui)常見的(de)射(she)頻是(shi)電焊機.濺(jian)射(she)過程(cheng)所用設備的(de)區別就(jiu)是(shi)電源的(de)區別.

以上(shang)就是主要的(de)磁控濺射鍍膜設備的(de)濺射方式，希望本文能夠讓用戶對設備更加了解。