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CVD設備
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磁控濺射系統設備的主要用途

2020-07-17 08:34:21

磁控濺射系統設備在(zai)如今廣大行(xing)業(ye)中應用非(fei)常(chang)的廣泛(fan),那么(me)(me)其(qi)主要用途是什么(me)(me)呢?可能很多新用戶不是非(fei)常(chang)的了解(jie),下(xia)面小編來給大家進行(xing)講解(jie)一下(xia)。

磁控濺射系統設備制備的濺(jian)射薄膜的特點

磁控濺射系統設(she)備(bei)的主要(yao)用途(tu):

1.各種功(gong)能性的薄膜鍍膜。所鍍的膜一般能夠(gou)吸收、透射(she)、反射(she)、折(zhe)射(she)、偏光等效果。

2.時裝裝飾領域的(de)應用,比如說各(ge)種全反射鍍膜(mo)以及半透(tou)明鍍膜(mo),可適用在手機外殼、鼠(shu)標等產品上。

3.微(wei)電子行業(ye)領域(yu)中(zhong),其是一種非熱(re)式(shi)鍍膜技術,主要應用在化(hua)學氣象沉積上。

4.在(zai)光學(xue)領域中用(yong)(yong)途巨大,比如(ru)說光學(xue)薄(bo)膜(mo)(如(ru)增(zeng)透(tou)膜(mo))、低輻射玻 璃和(he)透(tou)明導電玻璃等方面得到應用(yong)(yong)。

5.在機械行業(ye)加工中,其表(biao)(biao)面功能膜、超硬膜等(deng)等(deng)。其作用(yong)能夠提供物品表(biao)(biao)面硬度從而提高化(hua)學穩(wen)定性能,能夠延長物品使(shi)用(yong)周(zhou)期(qi)。

目前(qian),磁控(kong)濺射系統設(she)備已經(jing)被廣(guang)泛的(de)應用到廣(guang)大的(de)領域中,在各行各業中都(dou)發揮著重要的(de)作用。

磁控濺射系統


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