磁控濺射設備的主要用途

（1）各種(zhong)功(gong)能性薄膜(mo)：如(ru)具有吸收、透射(she)、反射(she)、折射(she)、偏光等作(zuo)用(yong)的薄膜(mo)。例(li)如(ru)，低溫沉積(ji)氮化硅減反射(she)膜(mo)，以提(ti)高太(tai)陽能電(dian)池(chi)的光電(dian)轉換效率。

（2）裝飾領域的應(ying)用(yong)，如各(ge)種全反射(she)膜(mo)及半透明膜(mo)等(deng)，如手機外殼，鼠標等(deng)。

（3） 在微電子領(ling)域作為(wei)一種非熱式鍍膜技(ji)術(shu)，主要應用在化學氣相沉積（CVD）或金(jin)屬有(you)機

（4）化學氣相(xiang)沉(chen)積（CVD）生長困(kun)難及不適用的(de)材(cai)料薄膜(mo)沉(chen)積，而且可以(yi)獲得大面(mian)積非常均勻的(de)薄膜(mo)。

（5） 在(zai)光學領(ling)域：中頻(pin)(pin)閉合場非平(ping)衡磁(ci)控濺(jian)射(she)技(ji)術也(ye)已在(zai)光學薄膜(mo)（如增透(tou)膜(mo)）、低輻射(she)玻璃和(he)透(tou)明(ming)(ming)導電(dian)玻璃等方面得到應用。特別是透(tou)明(ming)(ming)導電(dian)玻璃廣泛應用于平(ping)板顯示器件、太陽(yang)能電(dian)池、微波與射(she)頻(pin)(pin)屏蔽裝置與器件、傳感器等。

（6）在機械加工行業中，表面(mian)功能膜、超(chao)硬膜，自潤滑薄膜的(de)(de)表面(mian)沉積(ji)技術自問世以來得到長足(zu)發展，能有效(xiao)的(de)(de)提高(gao)表面(mian)硬度(du)、復合韌性、耐磨損性和抗(kang)高(gao)溫化學穩定性能，從而(er)大(da)幅度(du)地提高(gao)涂層產品的(de)(de)使用壽命。