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磁控濺射系統的工作原理是電子在電場E的作用下飛向襯底的過程中與氬原子發生碰撞，并使它們電離產生Ar正離子和新電子。 Ar離子在電場的作用下加速到陰極靶，并以高能轟擊靶表面，從而使靶材料濺射。 磁控濺射鍍膜儀廠家帶您了解更多信息！
磁控濺射包括許多類型。 每個都有不同的工作原理和應用對象。 但是，它們有一個共同點：磁場和電場之間的相互作用導致電子在目標表面附近盤旋，從而增加了電子撞擊氬氣產生離子的可能性。 產生的離子在電場的作用下撞擊靶表面并濺射靶材料。
磁控反應濺射絕緣子似乎很容易，但實際操作卻很困難。 主要問題是該反應不僅發生在零件的表面上，而且發生在陽極，真空腔的表面和目標源的表面上，這會導致滅火，目標源和表面起弧 工件。 德國萊比錫發明的雙靶技術很好地解決了這個問題。 原理是一對目標源是彼此的陰極和陽極，因此陽極表面被氧化或氮化。
在450磁控濺射中，由于運動中的電子在磁場中受到洛倫茲力，因此它們的運動軌跡會彎曲甚至產生螺旋運動，并且它們的運動路徑會變長，從而增加了與工作氣體分子碰撞的次數并產生了等離子體 堆積密度的增加，使得磁控管濺射速率大大提高，并且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，從而減少了薄膜污染的趨勢。
在機械加工工業中，表面功能膜，超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術自問世以來發展迅速，可以提高表面硬度，復合韌性，耐磨性和高溫化學穩定性。 延長涂層產品的壽命。
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