多弧靶

技術領域本(ben)實(shi)用(yong)新型(xing)涉及一(yi)種真空離子多弧鍍膜機設備的關鍵部件(jian)——多弧靶(ba)。

目前(qian)，國內(nei)外的(de)(de)真(zhen)空離子多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)鍍(du)膜(mo)機設(she)備(bei)，大多(duo)(duo)數采用直徑50～100mm的(de)(de)圓形(xing)平面多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)靶(ba)(ba)，一(yi)臺鍍(du)膜(mo)機需要配置幾(ji)個(ge)(ge)甚至幾(ji)十(shi)個(ge)(ge)這種(zhong)靶(ba)(ba)，相(xiang)應地還要配備(bei)幾(ji)個(ge)(ge)甚至幾(ji)十(shi)個(ge)(ge)引弧(hu)(hu)(hu)裝置和(he)電弧(hu)(hu)(hu)源(yuan)，使用時，必須逐個(ge)(ge)點燃(ran)每一(yi)個(ge)(ge)靶(ba)(ba)，關注每個(ge)(ge)弧(hu)(hu)(hu)源(yuan)的(de)(de)運行情況，因而導致真(zhen)空離子多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)鍍(du)膜(mo)機設(she)備(bei)的(de)(de)弧(hu)(hu)(hu)靶(ba)(ba)系統(tong)復雜(za)，造(zao)價高，操作繁(fan)瑣。另外，圓形(xing)平面多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)靶(ba)(ba)還存在控弧(hu)(hu)(hu)磁場位形(xing)不合理、靶(ba)(ba)材刻(ke)蝕不均勻、弧(hu)(hu)(hu)斑(ban)運動不穩定、經常(chang)跑弧(hu)(hu)(hu)和(he)熄(xi)弧(hu)(hu)(hu)等缺陷(xian)，影響工業化(hua)生產過程中的(de)(de)鍍(du)膜(mo)質量。