磁控濺射設備的主要用途

（1）各種功能性薄膜：如具(ju)有吸收(shou)、透射、反(fan)射、折射、偏光(guang)等作用(yong)的薄膜。例(li)如，低溫沉積氮(dan)化(hua)硅減反(fan)射膜，以提高太陽能電(dian)池(chi)的光(guang)電(dian)轉換效率(lv)。

（2）裝(zhuang)飾領域的應用(yong)，如各種全反射膜及(ji)半(ban)透明膜等，如手機外殼，鼠標(biao)等。

（3） 在微電子領域作為一(yi)種非(fei)熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積（CVD）或金屬有機

（4）化學氣(qi)相沉積(ji)（CVD）生長困難及不(bu)適用的材料薄膜(mo)沉積(ji)，而且(qie)可以獲得大面積(ji)非常均(jun)勻(yun)的薄膜(mo)。

（5） 在(zai)光學領(ling)域：中(zhong)頻閉合場非平衡磁控濺射(she)技術也已在(zai)光學薄膜(mo)（如增透(tou)膜(mo)）、低輻射(she)玻(bo)(bo)璃和透(tou)明導電(dian)玻(bo)(bo)璃等方(fang)面(mian)得到應用(yong)。特別是透(tou)明導電(dian)玻(bo)(bo)璃廣泛應用(yong)于平板(ban)顯示器(qi)件(jian)(jian)、太陽能電(dian)池、微(wei)(wei)波與射(she)頻屏蔽裝置與器(qi)件(jian)(jian)、傳感(gan)器(qi)等。

（6）在(zai)機械(xie)加工(gong)行業中，表面功能膜、超硬(ying)膜，自潤滑(hua)薄膜的表面沉(chen)積(ji)技術自問世(shi)以來得到長足發(fa)展(zhan)，能有效的提(ti)(ti)高表面硬(ying)度(du)、復合韌性(xing)、耐(nai)磨損性(xing)和抗高溫(wen)化學(xue)穩(wen)定(ding)性(xing)能，從(cong)而大幅度(du)地提(ti)(ti)高涂層產品的使用(yong)壽命。