磁控濺射鍍(du)膜機詳情

磁(ci)(ci)控濺(jian)射包括很多種(zhong)類。各有不同工作(zuo)原理和應用對象(xiang)。但(dan)有一(yi)共(gong)同點：利用磁(ci)(ci)場(chang)與電(dian)場(chang)交互作(zuo)用，使電(dian)子(zi)在靶(ba)(ba)表面附近成螺旋狀運行，從而增大電(dian)子(zi)撞(zhuang)擊氬氣產生離子(zi)的概率。所產生的離子(zi)在電(dian)場(chang)作(zuo)用下撞(zhuang)向靶(ba)(ba)面從而濺(jian)射出靶(ba)(ba)材。

靶(ba)(ba)(ba)(ba)源分(fen)(fen)平衡(heng)(heng)(heng)式(shi)和(he)非(fei)(fei)平衡(heng)(heng)(heng)式(shi)，平衡(heng)(heng)(heng)式(shi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)源鍍膜(mo)(mo)均勻，非(fei)(fei)平衡(heng)(heng)(heng)式(shi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)源鍍膜(mo)(mo)膜(mo)(mo)層和(he)基(ji)體(ti)(ti)結合(he)(he)力(li)強。平衡(heng)(heng)(heng)靶(ba)(ba)(ba)(ba)源多用于(yu)半導(dao)體(ti)(ti)光(guang)學膜(mo)(mo)，非(fei)(fei)平衡(heng)(heng)(heng)多用于(yu)磨損裝飾膜(mo)(mo)。磁(ci)(ci)(ci)(ci)控(kong)(kong)陰(yin)(yin)極(ji)(ji)(ji)(ji)(ji)按照磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)(chang)(chang)位形分(fen)(fen)布(bu)不同(tong)，大(da)致可(ke)分(fen)(fen)為平衡(heng)(heng)(heng)態磁(ci)(ci)(ci)(ci)控(kong)(kong)陰(yin)(yin)極(ji)(ji)(ji)(ji)(ji)和(he)非(fei)(fei)平衡(heng)(heng)(heng)態磁(ci)(ci)(ci)(ci)控(kong)(kong)陰(yin)(yin)極(ji)(ji)(ji)(ji)(ji)。平衡(heng)(heng)(heng)態磁(ci)(ci)(ci)(ci)控(kong)(kong)陰(yin)(yin)極(ji)(ji)(ji)(ji)(ji)內外(wai)磁(ci)(ci)(ci)(ci)鋼的(de)(de)磁(ci)(ci)(ci)(ci)通量大(da)致相(xiang)等(deng)，兩極(ji)(ji)(ji)(ji)(ji)磁(ci)(ci)(ci)(ci)力(li)線(xian)(xian)(xian)(xian)閉合(he)(he)于(yu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)面(mian)(mian)，很(hen)好地將電子(zi)(zi)/等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)約束在(zai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)面(mian)(mian)附近，增(zeng)加了(le)(le)碰撞幾率，提高了(le)(le)離(li)(li)化效(xiao)率，因(yin)而(er)在(zai)較(jiao)低的(de)(de)工作氣壓和(he)電壓下就能起輝(hui)并維持輝(hui)光(guang)放電，靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)利用率相(xiang)對(dui)較(jiao)高。但由(you)于(yu)電子(zi)(zi)沿(yan)磁(ci)(ci)(ci)(ci)力(li)線(xian)(xian)(xian)(xian)運動主要閉合(he)(he)于(yu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)面(mian)(mian)，基(ji)片(pian)區(qu)域(yu)所受離(li)(li)子(zi)(zi)轟(hong)擊(ji)較(jiao)小。非(fei)(fei)平衡(heng)(heng)(heng)磁(ci)(ci)(ci)(ci)控(kong)(kong)濺(jian)射(she)(she)技術(shu)，即讓磁(ci)(ci)(ci)(ci)控(kong)(kong)陰(yin)(yin)極(ji)(ji)(ji)(ji)(ji)外(wai)磁(ci)(ci)(ci)(ci)極(ji)(ji)(ji)(ji)(ji)磁(ci)(ci)(ci)(ci)通大(da)于(yu)內磁(ci)(ci)(ci)(ci)極(ji)(ji)(ji)(ji)(ji)，兩極(ji)(ji)(ji)(ji)(ji)磁(ci)(ci)(ci)(ci)力(li)線(xian)(xian)(xian)(xian)在(zai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)面(mian)(mian)不完全(quan)閉合(he)(he)，部(bu)分(fen)(fen)磁(ci)(ci)(ci)(ci)力(li)線(xian)(xian)(xian)(xian)可(ke)沿(yan)靶(ba)(ba)(ba)(ba)的(de)(de)邊(bian)緣延(yan)伸到基(ji)片(pian)區(qu)域(yu)，從而(er)部(bu)分(fen)(fen)電子(zi)(zi)可(ke)以沿(yan)著磁(ci)(ci)(ci)(ci)力(li)線(xian)(xian)(xian)(xian)擴展到基(ji)片(pian)，增(zeng)加基(ji)片(pian)區(qu)域(yu)的(de)(de)等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)密(mi)度(du)和(he)氣體(ti)(ti)電離(li)(li)率。不管平衡(heng)(heng)(heng)還(huan)是非(fei)(fei)平衡(heng)(heng)(heng)，若磁(ci)(ci)(ci)(ci)鐵靜(jing)止，其磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)(chang)(chang)特性決定了(le)(le)一般(ban)(ban)靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)利用率小于(yu)30%。為增(zeng)大(da)靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)利用率，可(ke)采用旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)(chang)(chang)。但旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)(chang)(chang)需要旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)機構，同(tong)時濺(jian)射(she)(she)速率要減小。旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)(chang)(chang)多用于(yu)大(da)型(xing)或貴重靶(ba)(ba)(ba)(ba)，如半導(dao)體(ti)(ti)膜(mo)(mo)濺(jian)射(she)(she)。對(dui)于(yu)小型(xing)設(she)備和(he)一般(ban)(ban)工業設(she)備，多用磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)(chang)(chang)靜(jing)止靶(ba)(ba)(ba)(ba)源。