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磁控濺射原理：電子在電場的效果下加速飛向基片的過程中與氬原子產生碰撞，電離出很多的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的效果下加速轟擊靶材，濺射出很多的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）堆積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛倫茲力的影響，被捆綁在接近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的效果下環繞靶面作圓周運動，該電子的運動途徑很長。
（1）各種功用性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等效果的薄膜。例如，低溫堆積氮化硅減反射膜，以進步太陽能電池的光電轉化功率。
（2）裝飾范疇的應用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。
（3） 在微電子范疇作為一種非熱式鍍膜技能，首要應用在化學氣相堆積（CVD）或金屬有機
（4）化學氣相堆積（CVD）生長困難及不適用的資料薄膜堆積，而且可以獲得大面積十分均勻的薄膜。
（5） 在光學范疇：中頻閉合場非平衡磁控濺射技能也已在光學薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方面得到應用。特別是透明導電玻璃廣泛應用于平板顯現器材、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器材、傳感器等。
（6）在機械加工行業中，外表功用膜、超硬膜，自潤滑薄膜的外表堆積技能自面世以來得到長足發展，能有用的進步外表硬度、復合耐性、耐磨損性和抗高溫化學安穩性能，從而大幅度地進步涂層產品的使用壽命。
磁控濺射除上述已被很多應用的范疇，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光資料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要效果。
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