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磁控濺射技術相關于其他成膜技術具有無法比擬的優異功用,比如沉積速度快、溫度低、環保等優異的功用,因此該技術得到了廣泛的運用,可是磁控濺射技術制備特定功用紡織品對基材有必定的選擇性,另外,制備的紡織品的安穩性還有待進步。因此,本工作將磁控濺射技術和紡織品聯系在一起,運用磁控濺射技術制備功用性紡織品,使紡織品具有一些獨特的功用比如電磁屏蔽、導電、紫外防護、抑菌等功用。然后通過前后收拾的方法,拓寬了磁控濺射技術關于基材的選擇規模,進步磁控濺射技術制備的功用紡織品的安穩性。本論文的首要研究內容和定論包含以下三個部分:(1)運用磁控濺射技術按照必定的鍍覆參數將Ag鍍覆到滌綸(PET)機織物和丙綸(PP)無紡布上。根究濺射功率與濺射速率的聯系,膜厚與導電以及結晶功用的聯系。結果表明,在較小濺射功率下速率愈加安穩。
如果靶材是磁性材料，磁力線被靶材屏蔽，磁力線難以穿透靶材在靶材外表上方構成磁場，磁控的作用將大大下降。因此，濺射磁性材料時，一方面要求磁控靶的磁場要強一些，另一方面靶材也要制備的薄一些，以便磁力線能穿過靶材，在靶面上方發生磁控作用。
磁控濺射設備一般依據所選用的電源的不同又可分為直流濺射和射頻濺射兩種。直流磁控濺射的特點是在陽基片和陰靶之間加一個直流電壓，陽離子在電場的作用下轟擊靶材，它的濺射速率一般都比較大。可是直流濺射一般只能用于金屬靶材，因為如果是絕緣體靶材，則因為陽粒子在靶外表堆集，形成所謂的“靶中毒”，濺射率越來越低。
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