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技術領域本實用新型涉及一種真空離子多弧鍍膜機設備的關鍵部件——多弧靶。
目前，國內外的真空離子多弧鍍膜機設備，大多數采用直徑50～100mm的圓形平面多弧靶，一臺鍍膜機需要配置幾個甚至幾十個這種靶，相應地還要配備幾個甚至幾十個引弧裝置和電弧源，使用時，必須逐個點燃每一個靶，關注每個弧源的運行情況，因而導致真空離子多弧鍍膜機設備的弧靶系統復雜，造價高，操作繁瑣。另外，圓形平面多弧靶還存在控弧磁場位形不合理、靶材刻蝕不均勻、弧斑運動不穩定、經常跑弧和熄弧等缺陷，影響工業化生產過程中的鍍膜質量。
