束源爐

在真(zhen)空環(huan)境中，將材料加(jia)(jia)熱(re)并鍍到(dao)基片上稱為真(zhen)空蒸(zheng)(zheng)(zheng)(zheng)鍍,蒸(zheng)(zheng)(zheng)(zheng)鍍法的加(jia)(jia)熱(re)方式有(you)(you)電流加(jia)(jia)熱(re)、電子束加(jia)(jia)熱(re)、輻射(she)加(jia)(jia)熱(re)等，當蒸(zheng)(zheng)(zheng)(zheng)發(fa)源達到(dao)蒸(zheng)(zheng)(zheng)(zheng)發(fa)溫度后，會(hui)以(yi)分子、原子或(huo)團(tuan)簇(cu)等自由程較(jiao)大(da)的狀態出現，這些粒子遇到(dao)溫度較(jiao)低的基底時就(jiu)會(hui)就(jiu)會(hui)沉積形成薄膜(mo)，蒸(zheng)(zheng)(zheng)(zheng)鍍法有(you)(you)純度高潔凈好的優點，常用(yong)于金屬鍍膜(mo)、非金屬鍍膜(mo)和有(you)(you)機物鍍膜(mo)。

容納并加熱(re)蒸(zheng)發加熱(re)材(cai)料的(de)(de)設備是(shi)熱(re)蒸(zheng)發源(yuan)(yuan)，束(shu)(shu)(shu)源(yuan)(yuan)爐(lu)是(shi)熱(re)蒸(zheng)發源(yuan)(yuan)的(de)(de)一種，其包括坩堝(guo)和噴(pen)射口兩部分構成，傳統束(shu)(shu)(shu)源(yuan)(yuan)爐(lu)采用臥式蒸(zheng)發的(de)(de)空間結構，大大降(jiang)低了該技(ji)術在工業生產(chan)上(shang)的(de)(de)應用和推廣，并且大多數束(shu)(shu)(shu)源(yuan)(yuan)爐(lu)在蒸(zheng)發低溫(wen)材(cai)料或是(shi)對溫(wen)度(du)比較敏感的(de)(de)材(cai)料時不能很好的(de)(de)進(jin)行控(kong)制(zhi)。常見有(you)單個噴(pen)嘴(zui)束(shu)(shu)(shu)源(yuan)(yuan)爐(lu)和多個噴(pen)嘴(zui)的(de)(de)臥式束(shu)(shu)(shu)源(yuan)(yuan)爐(lu)，單個噴(pen)嘴(zui)在襯底上(shang)沉積均勻(yun)性差；臥式束(shu)(shu)(shu)源(yuan)(yuan)爐(lu)不能在豎直方向(xiang)上(shang)均勻(yun)鍍膜，且低溫(wen)蒸(zheng)發時，響應時間長(chang)，溫(wen)控(kong)效(xiao)果(guo)差。