多弧靶

技術領域本實用(yong)新型(xing)涉及(ji)一種真空離子多(duo)弧鍍膜(mo)機設備的關鍵部件——多(duo)弧靶。

目前，國內(nei)外(wai)的真(zhen)空離子(zi)(zi)多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)鍍(du)(du)膜機設(she)備(bei)，大多(duo)(duo)數采用(yong)直徑50～100mm的圓形平(ping)面多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)靶(ba)(ba)，一臺鍍(du)(du)膜機需要配置幾(ji)個(ge)(ge)(ge)甚(shen)至幾(ji)十個(ge)(ge)(ge)這種靶(ba)(ba)，相應地還(huan)要配備(bei)幾(ji)個(ge)(ge)(ge)甚(shen)至幾(ji)十個(ge)(ge)(ge)引弧(hu)(hu)(hu)裝置和電弧(hu)(hu)(hu)源，使用(yong)時，必須逐個(ge)(ge)(ge)點(dian)燃每(mei)一個(ge)(ge)(ge)靶(ba)(ba)，關(guan)注(zhu)每(mei)個(ge)(ge)(ge)弧(hu)(hu)(hu)源的運行情況，因而導致真(zhen)空離子(zi)(zi)多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)鍍(du)(du)膜機設(she)備(bei)的弧(hu)(hu)(hu)靶(ba)(ba)系統復雜，造價高，操作(zuo)繁瑣(suo)。另外(wai)，圓形平(ping)面多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)靶(ba)(ba)還(huan)存在控弧(hu)(hu)(hu)磁場位形不合理、靶(ba)(ba)材刻蝕(shi)不均勻、弧(hu)(hu)(hu)斑運動不穩定、經常跑弧(hu)(hu)(hu)和熄弧(hu)(hu)(hu)等(deng)缺陷，影響工(gong)業化生產過(guo)程中的鍍(du)(du)膜質量。