多弧靶

技術領域本實(shi)用新型涉(she)及一種真空離子多弧鍍膜(mo)機(ji)設備的(de)關(guan)鍵部(bu)件(jian)——多弧靶。

目前，國(guo)內外的真空離子多(duo)(duo)(duo)弧(hu)(hu)鍍(du)(du)(du)膜機(ji)設(she)備(bei)，大多(duo)(duo)(duo)數采用(yong)直徑(jing)50～100mm的圓形平(ping)面多(duo)(duo)(duo)弧(hu)(hu)靶(ba)，一臺鍍(du)(du)(du)膜機(ji)需要(yao)配置幾個(ge)(ge)(ge)甚至幾十個(ge)(ge)(ge)這種靶(ba)，相應地還要(yao)配備(bei)幾個(ge)(ge)(ge)甚至幾十個(ge)(ge)(ge)引弧(hu)(hu)裝置和(he)電弧(hu)(hu)源，使用(yong)時(shi)，必須逐個(ge)(ge)(ge)點燃每一個(ge)(ge)(ge)靶(ba)，關注(zhu)每個(ge)(ge)(ge)弧(hu)(hu)源的運(yun)行(xing)情況，因而導致真空離子多(duo)(duo)(duo)弧(hu)(hu)鍍(du)(du)(du)膜機(ji)設(she)備(bei)的弧(hu)(hu)靶(ba)系統復雜(za)，造(zao)價高，操作(zuo)繁瑣。另外，圓形平(ping)面多(duo)(duo)(duo)弧(hu)(hu)靶(ba)還存(cun)在控(kong)弧(hu)(hu)磁場位形不合理(li)、靶(ba)材刻蝕不均勻、弧(hu)(hu)斑運(yun)動(dong)不穩定(ding)、經(jing)常跑(pao)弧(hu)(hu)和(he)熄弧(hu)(hu)等缺陷，影響工業化生產過程中的鍍(du)(du)(du)膜質量(liang)。