多弧靶

技術領域本(ben)實(shi)用新型(xing)涉及一種真空(kong)離子(zi)多(duo)弧鍍膜機設備(bei)的關(guan)鍵部(bu)件——多(duo)弧靶。

目(mu)前，國內外(wai)的(de)真空(kong)離子多(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)鍍膜機設備，大多(duo)數采用直徑50～100mm的(de)圓(yuan)(yuan)形平面多(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)靶(ba)，一(yi)臺鍍膜機需要配置幾個(ge)甚(shen)至幾十個(ge)這種靶(ba)，相(xiang)應地還要配備幾個(ge)甚(shen)至幾十個(ge)引弧(hu)(hu)(hu)(hu)裝置和(he)電弧(hu)(hu)(hu)(hu)源(yuan)，使(shi)用時，必須逐(zhu)個(ge)點燃每一(yi)個(ge)靶(ba)，關注每個(ge)弧(hu)(hu)(hu)(hu)源(yuan)的(de)運行情況(kuang)，因(yin)而導致真空(kong)離子多(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)鍍膜機設備的(de)弧(hu)(hu)(hu)(hu)靶(ba)系(xi)統(tong)復雜(za)，造價高，操作繁瑣。另外(wai)，圓(yuan)(yuan)形平面多(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)靶(ba)還存在(zai)控弧(hu)(hu)(hu)(hu)磁場(chang)位形不合理、靶(ba)材刻蝕不均勻(yun)、弧(hu)(hu)(hu)(hu)斑(ban)運動不穩定、經(jing)常跑弧(hu)(hu)(hu)(hu)和(he)熄弧(hu)(hu)(hu)(hu)等缺陷，影響工(gong)業(ye)化生(sheng)產過程中(zhong)的(de)鍍膜質量。