多弧靶

技術(shu)領域本實用(yong)新型(xing)涉(she)及一種真空離子多弧(hu)鍍膜機設(she)備的(de)關鍵部件——多弧(hu)靶。

目前，國內(nei)外(wai)的(de)(de)真(zhen)空(kong)離子多(duo)弧(hu)鍍膜(mo)(mo)機(ji)設備(bei)(bei)，大多(duo)數采用(yong)直徑50～100mm的(de)(de)圓形平面(mian)多(duo)弧(hu)靶(ba)(ba)，一(yi)臺鍍膜(mo)(mo)機(ji)需要配置幾(ji)(ji)(ji)(ji)個(ge)(ge)(ge)甚至幾(ji)(ji)(ji)(ji)十個(ge)(ge)(ge)這種靶(ba)(ba)，相應地還要配備(bei)(bei)幾(ji)(ji)(ji)(ji)個(ge)(ge)(ge)甚至幾(ji)(ji)(ji)(ji)十個(ge)(ge)(ge)引弧(hu)裝置和電弧(hu)源，使用(yong)時，必須逐個(ge)(ge)(ge)點燃每一(yi)個(ge)(ge)(ge)靶(ba)(ba)，關注每個(ge)(ge)(ge)弧(hu)源的(de)(de)運行情況(kuang)，因而導致真(zhen)空(kong)離子多(duo)弧(hu)鍍膜(mo)(mo)機(ji)設備(bei)(bei)的(de)(de)弧(hu)靶(ba)(ba)系統(tong)復(fu)雜，造(zao)價高(gao)，操(cao)作繁瑣。另外(wai)，圓形平面(mian)多(duo)弧(hu)靶(ba)(ba)還存(cun)在(zai)控弧(hu)磁場位形不(bu)合(he)理、靶(ba)(ba)材刻蝕不(bu)均勻、弧(hu)斑運動不(bu)穩定、經常跑弧(hu)和熄弧(hu)等缺陷，影響工業化生產過程中(zhong)的(de)(de)鍍膜(mo)(mo)質量。