束源爐

在真空環境中，將材(cai)料加(jia)熱(re)(re)(re)并鍍(du)到(dao)(dao)基片上稱為(wei)真空蒸(zheng)鍍(du),蒸(zheng)鍍(du)法的加(jia)熱(re)(re)(re)方式有電(dian)流加(jia)熱(re)(re)(re)、電(dian)子束加(jia)熱(re)(re)(re)、輻射加(jia)熱(re)(re)(re)等，當蒸(zheng)發(fa)源達(da)到(dao)(dao)蒸(zheng)發(fa)溫度后(hou)，會(hui)以分子、原子或團簇等自由(you)程較(jiao)大的狀態(tai)出(chu)現，這些(xie)粒子遇(yu)到(dao)(dao)溫度較(jiao)低的基底(di)時就會(hui)就會(hui)沉積形(xing)成薄膜，蒸(zheng)鍍(du)法有純度高(gao)潔凈好的優點，常用于金(jin)屬(shu)(shu)鍍(du)膜、非金(jin)屬(shu)(shu)鍍(du)膜和有機物鍍(du)膜。

容納并加(jia)熱(re)蒸(zheng)(zheng)發加(jia)熱(re)材料的(de)設備是熱(re)蒸(zheng)(zheng)發源(yuan)(yuan)(yuan)，束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐是熱(re)蒸(zheng)(zheng)發源(yuan)(yuan)(yuan)的(de)一種，其包括坩(gan)堝和(he)噴射口兩部分(fen)構成，傳統束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐采(cai)用臥式蒸(zheng)(zheng)發的(de)空間結構，大大降低了該技術在(zai)工業生產上(shang)(shang)的(de)應用和(he)推廣，并且大多數束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐在(zai)蒸(zheng)(zheng)發低溫(wen)材料或是對(dui)溫(wen)度比(bi)較敏(min)感(gan)的(de)材料時不(bu)能很好的(de)進行控(kong)(kong)制。常見有(you)單個噴嘴(zui)(zui)束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐和(he)多個噴嘴(zui)(zui)的(de)臥式束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐，單個噴嘴(zui)(zui)在(zai)襯底上(shang)(shang)沉積均(jun)勻(yun)性差；臥式束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐不(bu)能在(zai)豎直(zhi)方向(xiang)上(shang)(shang)均(jun)勻(yun)鍍膜，且低溫(wen)蒸(zheng)(zheng)發時，響應時間長，溫(wen)控(kong)(kong)效(xiao)果差。