束源爐

在真空環境中，將材料加(jia)熱(re)并鍍到(dao)基片上稱為真空蒸鍍,蒸鍍法的(de)(de)加(jia)熱(re)方式有(you)電流加(jia)熱(re)、電子束加(jia)熱(re)、輻射加(jia)熱(re)等(deng)，當(dang)蒸發(fa)源(yuan)達到(dao)蒸發(fa)溫(wen)度后，會以分子、原(yuan)子或團簇(cu)等(deng)自由程較大的(de)(de)狀態出現，這些粒子遇到(dao)溫(wen)度較低的(de)(de)基底(di)時就(jiu)(jiu)會就(jiu)(jiu)會沉(chen)積形成薄膜，蒸鍍法有(you)純(chun)度高潔(jie)凈好的(de)(de)優點，常用于金(jin)屬鍍膜、非(fei)金(jin)屬鍍膜和有(you)機物鍍膜。

容納并(bing)加熱蒸(zheng)發(fa)(fa)加熱材(cai)料的(de)設備是(shi)熱蒸(zheng)發(fa)(fa)源(yuan)(yuan)，束源(yuan)(yuan)爐(lu)是(shi)熱蒸(zheng)發(fa)(fa)源(yuan)(yuan)的(de)一種，其包括(kuo)坩堝和(he)(he)噴(pen)射口兩部(bu)分構成，傳統(tong)束源(yuan)(yuan)爐(lu)采(cai)用(yong)臥(wo)(wo)式蒸(zheng)發(fa)(fa)的(de)空(kong)間結構，大(da)大(da)降低了(le)該(gai)技術在(zai)工(gong)業生產上的(de)應(ying)用(yong)和(he)(he)推(tui)廣，并(bing)且大(da)多數束源(yuan)(yuan)爐(lu)在(zai)蒸(zheng)發(fa)(fa)低溫(wen)材(cai)料或是(shi)對溫(wen)度比較敏感的(de)材(cai)料時不(bu)能很好的(de)進行控制(zhi)。常見有(you)單個(ge)噴(pen)嘴束源(yuan)(yuan)爐(lu)和(he)(he)多個(ge)噴(pen)嘴的(de)臥(wo)(wo)式束源(yuan)(yuan)爐(lu)，單個(ge)噴(pen)嘴在(zai)襯底上沉積均勻性差；臥(wo)(wo)式束源(yuan)(yuan)爐(lu)不(bu)能在(zai)豎(shu)直方(fang)向上均勻鍍膜(mo)，且低溫(wen)蒸(zheng)發(fa)(fa)時，響應(ying)時間長，溫(wen)控效(xiao)果差。