磁(ci)控濺射(she)的(de)(de)(de)工(gong)作(zuo)原理是指(zhi)電(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)在(zai)(zai)(zai)電(dian)(dian)場(chang)(chang)E的(de)(de)(de)作(zuo)用(yong)下(xia)，在(zai)(zai)(zai)飛(fei)向(xiang)基片過程中(zhong)與氬原子(zi)(zi)(zi)(zi)發生(sheng)碰(peng)撞(zhuang)，使(shi)其電(dian)(dian)離(li)(li)產生(sheng)出(chu)Ar正離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)和新的(de)(de)(de)電(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)；新電(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)飛(fei)向(xiang)基片，Ar離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)在(zai)(zai)(zai)電(dian)(dian)場(chang)(chang)作(zuo)用(yong)下(xia)加速飛(fei)向(xiang)陰(yin)極靶(ba)，并(bing)以高(gao)能(neng)量轟(hong)擊(ji)靶(ba)表(biao)(biao)面，使(shi)靶(ba)材(cai)發生(sheng)濺射(she)。在(zai)(zai)(zai)濺射(she)粒(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)中(zhong)，中(zhong)性(xing)的(de)(de)(de)靶(ba)原子(zi)(zi)(zi)(zi)或分子(zi)(zi)(zi)(zi)沉積在(zai)(zai)(zai)基片上形(xing)(xing)成薄膜，而產生(sheng)的(de)(de)(de)二次電(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)會受(shou)到電(dian)(dian)場(chang)(chang)和磁(ci)場(chang)(chang)作(zuo)用(yong)，產生(sheng)E（電(dian)(dian)場(chang)(chang)）×B（磁(ci)場(chang)(chang)）所指(zhi)的(de)(de)(de)方向(xiang)漂移，簡稱E×B漂移，其運(yun)動(dong)軌跡近(jin)似于一條(tiao)擺(bai)(bai)線。若(ruo)為環(huan)形(xing)(xing)磁(ci)場(chang)(chang)，則電(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)就(jiu)以近(jin)似擺(bai)(bai)線形(xing)(xing)式在(zai)(zai)(zai)靶(ba)表(biao)(biao)面做圓(yuan)周(zhou)運(yun)動(dong)，它們的(de)(de)(de)運(yun)動(dong)路徑(jing)不僅(jin)很(hen)(hen)長，而且被束縛在(zai)(zai)(zai)靠近(jin)靶(ba)表(biao)(biao)面的(de)(de)(de)等離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)體區(qu)域內，并(bing)且在(zai)(zai)(zai)該(gai)區(qu)域中(zhong)電(dian)(dian)離(li)(li)出(chu)大量的(de)(de)(de)Ar 來轟(hong)擊(ji)靶(ba)材(cai)，從而實現了高(gao)的(de)(de)(de)沉積速率。隨著(zhu)碰(peng)撞(zhuang)次數(shu)的(de)(de)(de)增加，二次電(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)的(de)(de)(de)能(neng)量消耗殆盡，逐漸(jian)遠離(li)(li)靶(ba)表(biao)(biao)面，并(bing)在(zai)(zai)(zai)電(dian)(dian)場(chang)(chang)E的(de)(de)(de)作(zuo)用(yong)下(xia)沉積在(zai)(zai)(zai)基片上。由于該(gai)電(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)的(de)(de)(de)能(neng)量很(hen)(hen)低，傳遞(di)給(gei)基片的(de)(de)(de)能(neng)量很(hen)(hen)小，致使(shi)基片溫(wen)升較(jiao)低。

磁(ci)控(kong)濺射(she)是入射(she)粒子(zi)(zi)(zi)和靶的碰撞過程。入射(she)粒子(zi)(zi)(zi)在靶中(zhong)經歷復雜的散射(she)過程，和靶原(yuan)子(zi)(zi)(zi)碰撞，把部(bu)分(fen)動(dong)量傳給靶原(yuan)子(zi)(zi)(zi)，此(ci)靶原(yuan)子(zi)(zi)(zi)又和其他靶原(yuan)子(zi)(zi)(zi)碰撞，形成級聯(lian)過程。在這種級聯(lian)過程中(zhong)某(mou)些表面附(fu)近的靶原(yuan)子(zi)(zi)(zi)獲得向外運動(dong)的足夠(gou)動(dong)量，離開(kai)靶被濺射(she)出來。