多弧靶

技術領域本實用新型(xing)涉(she)及一種(zhong)真(zhen)空離(li)子(zi)多弧(hu)鍍(du)膜機設備的關(guan)鍵部(bu)件——多弧(hu)靶。

目前(qian)，國(guo)內外(wai)的(de)真空離子多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)鍍膜(mo)機(ji)設備(bei)，大多(duo)(duo)數采(cai)用(yong)直徑50～100mm的(de)圓(yuan)形平面(mian)多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)靶，一臺鍍膜(mo)機(ji)需(xu)要配(pei)置(zhi)(zhi)幾個(ge)(ge)甚至幾十個(ge)(ge)這種(zhong)靶，相應地還要配(pei)備(bei)幾個(ge)(ge)甚至幾十個(ge)(ge)引弧(hu)(hu)(hu)(hu)裝置(zhi)(zhi)和電弧(hu)(hu)(hu)(hu)源，使(shi)用(yong)時，必(bi)須逐(zhu)個(ge)(ge)點燃每(mei)一個(ge)(ge)靶，關(guan)注每(mei)個(ge)(ge)弧(hu)(hu)(hu)(hu)源的(de)運行情況，因而導致真空離子多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)鍍膜(mo)機(ji)設備(bei)的(de)弧(hu)(hu)(hu)(hu)靶系統(tong)復雜，造價高，操作繁瑣。另外(wai)，圓(yuan)形平面(mian)多(duo)(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)靶還存在(zai)控(kong)弧(hu)(hu)(hu)(hu)磁(ci)場位形不合理(li)、靶材(cai)刻蝕不均勻(yun)、弧(hu)(hu)(hu)(hu)斑運動不穩(wen)定(ding)、經(jing)常跑弧(hu)(hu)(hu)(hu)和熄弧(hu)(hu)(hu)(hu)等缺(que)陷(xian)，影響工業化生產過程中的(de)鍍膜(mo)質(zhi)量。