多弧靶

技術領(ling)域本實用(yong)新型涉及(ji)一種真空離子多弧鍍(du)膜機設(she)備的關(guan)鍵(jian)部件——多弧靶。

目前(qian)，國(guo)內外(wai)的真空離子多(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)鍍膜機設備(bei)，大多(duo)數采(cai)用直徑50～100mm的圓形平面多(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，一臺鍍膜機需(xu)要配置(zhi)幾(ji)個甚(shen)(shen)至(zhi)幾(ji)十(shi)個這種靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，相(xiang)應地還要配備(bei)幾(ji)個甚(shen)(shen)至(zhi)幾(ji)十(shi)個引弧(hu)(hu)(hu)(hu)裝置(zhi)和電弧(hu)(hu)(hu)(hu)源，使用時，必須逐個點燃每一個靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，關(guan)注每個弧(hu)(hu)(hu)(hu)源的運行情況，因而導致真空離子多(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)鍍膜機設備(bei)的弧(hu)(hu)(hu)(hu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)系統復雜，造價高，操作繁瑣(suo)。另外(wai)，圓形平面多(duo)弧(hu)(hu)(hu)(hu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)還存在控弧(hu)(hu)(hu)(hu)磁場位形不合(he)理、靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)材刻(ke)蝕不均(jun)勻、弧(hu)(hu)(hu)(hu)斑運動不穩定(ding)、經常跑弧(hu)(hu)(hu)(hu)和熄弧(hu)(hu)(hu)(hu)等缺陷，影響工業化生產過程中(zhong)的鍍膜質(zhi)量。