束源爐

在真空(kong)環境中(zhong)，將材料加熱(re)并鍍(du)(du)到(dao)基(ji)片(pian)上稱為真空(kong)蒸(zheng)鍍(du)(du),蒸(zheng)鍍(du)(du)法(fa)的(de)加熱(re)方式(shi)有(you)電流(liu)加熱(re)、電子(zi)束(shu)加熱(re)、輻(fu)射加熱(re)等(deng)，當蒸(zheng)發源達到(dao)蒸(zheng)發溫度(du)(du)后，會(hui)(hui)以分子(zi)、原子(zi)或團(tuan)簇等(deng)自由(you)程較(jiao)大的(de)狀態(tai)出(chu)現，這些粒子(zi)遇到(dao)溫度(du)(du)較(jiao)低的(de)基(ji)底(di)時就(jiu)會(hui)(hui)就(jiu)會(hui)(hui)沉積形成薄膜(mo)，蒸(zheng)鍍(du)(du)法(fa)有(you)純度(du)(du)高潔凈好的(de)優點，常用于金(jin)屬鍍(du)(du)膜(mo)、非金(jin)屬鍍(du)(du)膜(mo)和有(you)機物鍍(du)(du)膜(mo)。

容(rong)納(na)并加熱蒸(zheng)發(fa)加熱材料的(de)(de)(de)設備是熱蒸(zheng)發(fa)源(yuan)(yuan)(yuan)，束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐(lu)(lu)是熱蒸(zheng)發(fa)源(yuan)(yuan)(yuan)的(de)(de)(de)一種(zhong)，其包括坩堝和噴射(she)口兩部分(fen)構成(cheng)，傳統(tong)束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐(lu)(lu)采用臥式(shi)(shi)蒸(zheng)發(fa)的(de)(de)(de)空間(jian)結構，大大降低(di)了該技(ji)術在(zai)工(gong)業生產上(shang)(shang)(shang)的(de)(de)(de)應(ying)用和推(tui)廣，并且(qie)大多數束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐(lu)(lu)在(zai)蒸(zheng)發(fa)低(di)溫材料或(huo)是對溫度比較敏感的(de)(de)(de)材料時(shi)不能很好的(de)(de)(de)進行控制。常見有單個噴嘴束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐(lu)(lu)和多個噴嘴的(de)(de)(de)臥式(shi)(shi)束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐(lu)(lu)，單個噴嘴在(zai)襯底上(shang)(shang)(shang)沉積(ji)均勻性差；臥式(shi)(shi)束(shu)源(yuan)(yuan)(yuan)爐(lu)(lu)不能在(zai)豎直方(fang)向上(shang)(shang)(shang)均勻鍍(du)膜，且(qie)低(di)溫蒸(zheng)發(fa)時(shi)，響應(ying)時(shi)間(jian)長，溫控效果差。