多弧靶

技術領域本實用新型涉及一種真空離(li)子(zi)多(duo)弧鍍膜機設備的關鍵部(bu)件——多(duo)弧靶。

目前，國(guo)內外(wai)的真(zhen)空離(li)子多弧(hu)鍍膜(mo)機(ji)設(she)備(bei)，大多數采用直徑(jing)50～100mm的圓形平(ping)面多弧(hu)靶(ba)，一臺鍍膜(mo)機(ji)需要配置(zhi)幾(ji)個(ge)(ge)甚至幾(ji)十個(ge)(ge)這種靶(ba)，相應地還(huan)要配備(bei)幾(ji)個(ge)(ge)甚至幾(ji)十個(ge)(ge)引(yin)弧(hu)裝置(zhi)和電弧(hu)源(yuan)，使用時，必須(xu)逐個(ge)(ge)點(dian)燃每一個(ge)(ge)靶(ba)，關注每個(ge)(ge)弧(hu)源(yuan)的運行情況，因而導致真(zhen)空離(li)子多弧(hu)鍍膜(mo)機(ji)設(she)備(bei)的弧(hu)靶(ba)系統復(fu)雜，造價高，操作繁瑣。另外(wai)，圓形平(ping)面多弧(hu)靶(ba)還(huan)存(cun)在控弧(hu)磁場位形不合理、靶(ba)材刻蝕不均勻、弧(hu)斑(ban)運動(dong)不穩(wen)定、經常跑(pao)弧(hu)和熄弧(hu)等缺陷，影響工業化生產(chan)過程中的鍍膜(mo)質量。