多弧靶

技術領域本實用新型涉(she)及一種(zhong)真空離子多弧鍍膜(mo)機設(she)備的關鍵(jian)部件——多弧靶(ba)。

目前，國內外(wai)的(de)真空(kong)離子多弧(hu)鍍(du)(du)膜(mo)機設備，大多數采(cai)用(yong)直徑50～100mm的(de)圓形平面多弧(hu)靶(ba)，一(yi)(yi)臺鍍(du)(du)膜(mo)機需(xu)要配置幾(ji)個(ge)甚至(zhi)(zhi)幾(ji)十個(ge)這種靶(ba)，相應地還(huan)要配備幾(ji)個(ge)甚至(zhi)(zhi)幾(ji)十個(ge)引弧(hu)裝置和(he)電(dian)弧(hu)源(yuan)，使用(yong)時，必須逐(zhu)個(ge)點燃每一(yi)(yi)個(ge)靶(ba)，關(guan)注每個(ge)弧(hu)源(yuan)的(de)運行情況(kuang)，因而導致真空(kong)離子多弧(hu)鍍(du)(du)膜(mo)機設備的(de)弧(hu)靶(ba)系統復雜，造價高，操作(zuo)繁瑣(suo)。另(ling)外(wai)，圓形平面多弧(hu)靶(ba)還(huan)存(cun)在控弧(hu)磁(ci)場(chang)位形不合理、靶(ba)材刻蝕不均(jun)勻、弧(hu)斑(ban)運動(dong)不穩定、經常(chang)跑弧(hu)和(he)熄(xi)弧(hu)等(deng)缺陷，影響工業化(hua)生產過程(cheng)中的(de)鍍(du)(du)膜(mo)質量。