磁控濺(jian)射(she)的(de)工作(zuo)原理是指電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)在(zai)(zai)電(dian)(dian)(dian)場(chang)E的(de)作(zuo)用(yong)下(xia)(xia)，在(zai)(zai)飛(fei)向(xiang)基(ji)片(pian)過(guo)程(cheng)中(zhong)與氬原子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)發(fa)生(sheng)(sheng)(sheng)碰(peng)撞，使其電(dian)(dian)(dian)離產生(sheng)(sheng)(sheng)出Ar正離子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)和新的(de)電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)；新電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)飛(fei)向(xiang)基(ji)片(pian)，Ar離子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)在(zai)(zai)電(dian)(dian)(dian)場(chang)作(zuo)用(yong)下(xia)(xia)加速(su)飛(fei)向(xiang)陰極靶(ba)(ba)(ba)，并以高(gao)(gao)能量(liang)轟擊(ji)靶(ba)(ba)(ba)表面(mian)(mian)，使靶(ba)(ba)(ba)材(cai)發(fa)生(sheng)(sheng)(sheng)濺(jian)射(she)。在(zai)(zai)濺(jian)射(she)粒子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)中(zhong)，中(zhong)性的(de)靶(ba)(ba)(ba)原子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)或分子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)沉(chen)積(ji)在(zai)(zai)基(ji)片(pian)上形成薄膜，而(er)產生(sheng)(sheng)(sheng)的(de)二(er)次電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)會(hui)受到電(dian)(dian)(dian)場(chang)和磁場(chang)作(zuo)用(yong)，產生(sheng)(sheng)(sheng)E（電(dian)(dian)(dian)場(chang)）×B（磁場(chang)）所(suo)指的(de)方向(xiang)漂移，簡稱(cheng)E×B漂移，其運動軌跡近(jin)似(si)于一條擺線。若為環形磁場(chang)，則電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)就以近(jin)似(si)擺線形式(shi)在(zai)(zai)靶(ba)(ba)(ba)表面(mian)(mian)做圓(yuan)周運動，它們的(de)運動路徑不僅很(hen)長，而(er)且被束縛在(zai)(zai)靠近(jin)靶(ba)(ba)(ba)表面(mian)(mian)的(de)等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)體(ti)區域內，并且在(zai)(zai)該(gai)區域中(zhong)電(dian)(dian)(dian)離出大量(liang)的(de)Ar 來轟擊(ji)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)，從而(er)實現了(le)高(gao)(gao)的(de)沉(chen)積(ji)速(su)率。隨著碰(peng)撞次數(shu)的(de)增加，二(er)次電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)的(de)能量(liang)消耗(hao)殆盡(jin)，逐漸遠離靶(ba)(ba)(ba)表面(mian)(mian)，并在(zai)(zai)電(dian)(dian)(dian)場(chang)E的(de)作(zuo)用(yong)下(xia)(xia)沉(chen)積(ji)在(zai)(zai)基(ji)片(pian)上。由于該(gai)電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)的(de)能量(liang)很(hen)低，傳(chuan)遞給基(ji)片(pian)的(de)能量(liang)很(hen)小，致(zhi)使基(ji)片(pian)溫(wen)升較(jiao)低。

磁控濺(jian)射(she)(she)(she)是入射(she)(she)(she)粒(li)子(zi)和(he)靶(ba)(ba)(ba)的碰撞過程。入射(she)(she)(she)粒(li)子(zi)在(zai)靶(ba)(ba)(ba)中經歷復雜的散(san)射(she)(she)(she)過程，和(he)靶(ba)(ba)(ba)原(yuan)子(zi)碰撞，把部分動(dong)量傳給靶(ba)(ba)(ba)原(yuan)子(zi)，此靶(ba)(ba)(ba)原(yuan)子(zi)又和(he)其他靶(ba)(ba)(ba)原(yuan)子(zi)碰撞，形成級聯過程。在(zai)這種級聯過程中某些表面附(fu)近(jin)的靶(ba)(ba)(ba)原(yuan)子(zi)獲(huo)得向外(wai)運動(dong)的足夠動(dong)量，離(li)開靶(ba)(ba)(ba)被濺(jian)射(she)(she)(she)出來。