束源爐

在真空環境中，將材料加熱并鍍到基片上稱為真空蒸鍍,蒸鍍法的加熱方式有電流加熱、電子束加熱、輻射加熱等，當蒸發源達到蒸發溫度后，會以分子、原子或團簇等自由程較大的狀態出現，這些粒子遇到溫度較低的基底時就會就會沉積形成薄膜，蒸鍍法有純度高潔凈好的優點，常用于金屬鍍膜、非金屬鍍膜和有機物鍍膜。

容納并加熱蒸發加熱材料的設備是熱蒸發源，束源爐是熱蒸發源的一種，其包括坩堝和噴射口兩部分構成，傳統束源爐采用臥式蒸發的空間結構，大大降低了該技術在工業生產上的應用和推廣，并且大多數束源爐在蒸發低溫材料或是對溫度比較敏感的材料時不能很好的進行控制。常見有單個噴嘴束源爐和多個噴嘴的臥式束源爐，單個噴嘴在襯底上沉積均勻性差；臥式束源爐不能在豎直方向上均勻鍍膜，且低溫蒸發時，響應時間長，溫控效果差。