化學氣相沉積(CVD設備)是硬質合金領域的一個重要技術突破，它借助一種或幾種含有涂層元素的化合物或單質氣體在放置有基材的反應室里的氣相作用或在基材表面的化學反應而形成涂層，常見的CVD設備技術是以含C/N的有機物乙氰(CH3CN)作為主要反應氣體，與TiCl4、H2、N2在700~900℃下產生分解、化學反應生成TiCN。涂層有效地提高了硬質合金制品表面硬度和耐磨性，延長硬質合金制品的使用壽命，減少損耗，提高機加工效率。

20世紀60年代以來，CVD技術被普遍應用于硬質合金可轉位刀具的表面處理。80年代中后期，美國已有85%硬質合金工具采用了表面涂層處理，其中CVD涂層占到99%，到90年代中期，CVD涂層硬質合金刀片在涂層硬質合金刀具中仍占80%以上。

80年代末，Krupp.Widia開發的低溫化學氣相沉積(PCVD)技術達到了實用水平，其工藝處理溫度已降至450~650℃，有效控制了η相的產生，可用于螺絲刀具、銑刀、模具的TiN、TiCN、TiC等涂層，但迄今為止，PCVD工藝在刀具涂層領域的應用并不普遍。

90年代中期，中溫化學氣相沉積(MTCVD)新技術的出現使CVD技術發生了革命性變革。采用MTCVD技術可獲得致密纖維狀結晶形態的涂層。涂層厚度可達8~10μm。這種涂層結構具有極高的耐磨性、抗熱震性和韌性。MTCVD涂層硬質合金刀片適于在高溫、高速、大負荷、干切條件下使用，其使用壽命可比普通涂層硬質合金刀片提高一倍左右。

我國從20世紀70年代初開始研究CVD涂層技術，由于該項技術專用性較強，國內從事研究的單位不多。80年代中期，我國CVD刀具涂層技術的開發達到實用化水平，工藝技術水平與當時的國際水平相當，但在隨后的十多年里發展較為緩慢。我國的低溫化學氣相沉積(PCVD)技術的研究始于90年代初，PCVD技術主要用于模具涂層，目前在切削刀具領域的應用也十分有限。90年代末期，我國開始中溫化學氣相沉積(MTCVD)技術的研發工作。

文章內容來源于網絡，如有問題，請與我們聯絡！