磁控濺射設備在二濺射中增加一個平行于靶外表的關閉磁場，借助于靶外表上構成的正交電磁場，把二次電子捆綁在靶外表特定區域來增強電離功率，增加離子密度和能量，然后實現高速率濺射的進程。

磁控濺射設備能夠有用的進步產品的質量，特別是使用在一些金屬材質上的時候，其不只能夠讓其具有絕緣的效果，還能夠提水抗腐蝕程度的水平。

我們知道當高速電子對不銹鋼、鈦、鎳、金、銀、銅等貴稀金屬炮擊后，金屬分子將向上面的聚脂膜濺射，再經過聚脂膜上面磁的效果，使被濺射的金屬物均勻分布。所以，運用這種工藝，處理了染色-熱蒸發工藝生產的窗膜透光低、高反光、隔熱功能差、視覺含糊、易褪色、耐腐蝕性差等諸多缺點，不只能夠制造各種純金屬化窗膜，并且由于沒有增加任何顏料，所以它能夠杜絕偏色、變色，做到不褪色，確保純正的中性色，與任何車輛的顏色都能匹配，并確保不分層、不剝落不開裂。更重要的是，它在不同的光照度下，視覺顏色穩定不變，能夠確保車內人員的視線清晰。

在目前的商場中磁控濺射體系設備適用于電子、機械、修建和其他領域的金屬及介電涂層商場的很大一部分份額。該設備是對被加工的零件涂上借助等離子、經過特別靶標噴出的資料。目前,磁控濺射鍍膜是在高技術領域中生產薄膜常見的方法。

磁控濺射設備的工作原理是指電子在電場E的效果下，在飛向基片進程中與氬原子發生磕碰，使其電離發生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場效果下加速飛向陰靶，并以高能量炮擊靶外表，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上構成薄膜，而發生的二次電子會遭到電場和磁場效果，發生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌道近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線方式在靶外表做圓周運動，它們的運動途徑不只很長，并且被捆綁在接近靶外表的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來炮擊靶材，然后實現了高的沉積速率。

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