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磁控濺射設備包含很多品種。各有不同作業原理和應用目標。但有一共同點：利用磁場與電場交互效果，使電子在靶外表鄰近成螺旋狀運轉，然后大電子碰擊氬氣發生離子的概率。所發生的離子在電場效果下撞向靶面然后濺射出靶材。
磁控濺射設備能夠有用的提高產品的質量，特別是使用在一些金屬原料上的時候，其不只能夠讓其具有絕緣的效果，還能夠提水抗腐蝕程度的水平。
在現在的商場中磁控濺射系統設備適用于電子、機械、修建和其他范疇的金屬及介電涂層商場的很大一部分比例。該設備是對被加工的零件涂上憑借等離子、經過特別靶標噴出的資料。現在,磁控濺射鍍膜是在高技術范疇中出產薄膜常見的方法。
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控依照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰。
我們知道當高速電子對不銹鋼、鈦、鎳、金、銀、銅等貴稀金屬炮擊后，金屬分子將向上面的聚脂膜濺射，再經過聚脂膜上面磁的效果，使被濺射的金屬物均勻分布。所以，運用這種工藝，解決了染色-熱蒸騰工藝出產的窗膜透光低、高反光、隔熱功用差、視覺模糊、易褪色、耐腐蝕性差等許多缺點，不只能夠制作各種純金屬化窗膜，并且由于沒有添加任何顏料，所以它能夠杜絕偏色、變色，做到不褪色，確保純正的中性色，與任何車輛的色彩都能匹配，并確保不分層、不剝落不開裂。更重要的是，它在不同的光照度下，視覺色彩恒定不變，能夠確保車內人員的視野清晰。
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