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磁控濺射設備各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等效果的薄膜。例如，低溫堆積氮化硅減反射膜，以進步太陽能電池的光電轉化效率。裝修范疇的使用，如各種全反射膜及半通明膜等，如手機外殼，鼠標等。 在微電子范疇作為一種非熱式鍍膜技能，首要使用在化學氣相堆積（CVD）或金屬有機化學氣相堆積（CVD）成長困難及不適用的資料薄膜堆積，而且可以獲得大面積十分均勻的薄膜在光學范疇：中頻閉合場非平衡磁控濺射技能也已在光學薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和通明導電玻璃等方面得到使用。
特別是通明導電玻璃廣泛使用于平板顯示器材、太陽能電池、微波與射頻屏蔽設備與器材、傳感器等在機械加工行業中，外表功能膜、超硬膜，自潤滑薄膜的外表堆積技能自面世以來得到長足發展，能有用的進步外表硬度、復合耐性、耐磨損性和抗高溫化學穩定功能，從而大幅度地進步涂層產品的使用壽命。磁控濺射除上述已被許多使用的范疇，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光資料、太陽能電池、回憶合金薄膜研究方面發揮重要效果。
濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子炮擊靶外表，使被炮擊出的粒子堆積在基片上的技能。通常，利用低壓惰性氣體輝光放電來發生入射離子。陰極靶由鍍膜資料制成，基片作為陽極，真空室中通入0.1-10Pa的氬氣或其它惰性氣體，在陰極（靶）1-3KV直流負高壓或13.56MHz的射頻電壓效果下發生輝光放電。電離出的氬離子炮擊靶外表，使得靶原子濺起并堆積在基片上，形成薄膜。濺射辦法許多，首要有二級濺射、三級或四級濺射、磁控濺射、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱溝通射頻濺射、離子束濺射以及反應濺射等。
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