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磁控濺射設備跟著當下我國對環保作業的日益看重，傳統高耗費、重污染的電鍍職業逐漸被推上風口浪尖。因為電鍍職業的基礎性，注定著它無法直接被撤消，所以怎樣對電鍍技能進行升級換代，成為許多研究人員需求思考的問題。以前的鍍膜多采用電鍍法和化學鍍法，存在著厚度難以控制、膜層均勻性差、附著力差等問題，三廢污染特別嚴重，在人們環保認識逐漸加強的今天，其打開已受到了多方面的限制。
磁控濺射系統對現代化的重要性而磁控鍍膜系統對環境友好，無污染，耗材少，成膜均勻細密，與基體的結合力強。和傳統的鍍膜方法比較，磁控濺射鍍膜設備具有許多的利益，如裝修效果好，金屬質感強，易于操作等。特別在非金屬物件的應用上，有著傳統電鍍無法比擬的優勢。磁控濺射系統的作業原理是電子在電場E的效果下飛向襯底的過程中與氬原子發生碰撞，并使它們電離發生Ar正離子和新電子。 Ar離子在電場的效果下加快到陰極靶，并以高能轟擊靶外表，然后使靶資料濺射。
磁控濺射包括許多類型。 每個都有不同的作業原理和應用方針。 可是，它們有一個共同點：磁場和電場之間的相互效果導致電子在方針外表鄰近回旋扭轉，然后增加了電子撞擊氬氣發生離子的可能性。 發生的離子在電場的效果下撞擊靶外表并濺射靶資料。磁控反響濺射絕緣子好像很容易，但實際操作卻很困難。 主要問題是該反響不僅發生在零件的外表上，并且發生在陽極，真空腔的外表和方針源的外表上，這會導致滅火，方針源和外表起弧 工件。 德國萊比錫創造的雙靶技能很好地處理了這個問題。 原理是一對方針源是彼此的陰極和陽極，因而陽極外表被氧化或氮化。
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