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磁控濺射設備的工作原理是指電子在電場E的效果下，在飛向基片進程中與氬原子發生磕碰，使其電離發生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場效果下加速飛向陰靶，并以高能量炮擊靶外表，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上構成薄膜，而發生的二次電子會遭到電場和磁場效果，發生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌道近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線方式在靶外表做圓周運動，它們的運動途徑不只很長，并且被捆綁在接近靶外表的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來炮擊靶材，然后實現了高的沉積速率。
而磁控濺射鍍膜設備對環境友好，耗材少，成膜均勻細密，與基體的結合力強。和傳統的鍍膜方法相比，磁控濺射鍍膜設備具有許多的優點，如裝飾效果好，金屬質感強，易于操作等。特別在非金屬物件的應用上，有著傳統電鍍無法比擬的優勢。磁控濺射設備是現在汽車玻璃膜制造中的技能，與早期或現在一些劣質車膜出產商仍在選用的染色與鍍鋁復合方法來出產窗膜的工藝有著實質的不同。在上世紀八十年代初，在全球首先選用真空磁控濺射工藝商業化出產窗膜。
膜厚均勻性與磁控濺射靶的工作狀態息息相關，如靶的刻蝕狀態，靶的電磁場設汁等，因此，為保證膜厚均勻性，國外的薄膜制備公司或鍍膜設備制造公司都有各自的關于鍍膜設備(包括核心部件“靶”)的整套設計方案。同時，還有很多專門從事靶的分析、設計和制造的公司，并開發相關的應用設計軟件，根據客戶的要求對設備進行優化設計。國內在鍍膜設備的分析及設計方面與國際先進水平之間還存在較大差距。
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