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磁控濺射設備對環境友好，耗材少，成膜均勻細密，與基體的結合力強。和傳統的鍍膜辦法比較，磁控濺射鍍膜設備具有許多的長處，如裝修效果好，金屬質感強，易于操作等。特別在非金屬物件的應用上，有著傳統電鍍無法比擬的優勢。磁控濺射體系的作業原理是電子在電場E的效果下飛向襯底的過程中與氬原子發生磕碰，并使它們電離發生Ar正離子和新電子。 Ar離子在電場的效果下加速到陰靶，并以高能炮擊靶外表，然后使靶資料濺射。
磁控濺射包含許多類型。 每個都有不同的作業原理和應用對象。 但是，它們有一個共同點：磁場和電場之間的相互效果導致電子在方針外表鄰近回旋扭轉，然后增加了電子碰擊氬氣發生離子的可能性。 發生的離子在電場的效果下碰擊靶外表并濺射靶資料。
磁控濺射設備是在兩濺射的基礎上開發的。 在靶資料的表面上建立與電場正交的磁場。 它處理了低兩層濺射堆積速率和低等離子體電離速率的一階問題，這已成為目前的涂層。重要的行業辦法之一。 與其他涂層技能相比，磁控濺射具有以下特點：能夠將多種資料制成靶材，簡直能夠將一切金屬，合金和陶瓷資料制成靶材； 能夠在恰當條件下堆疊多種靶材共濺射辦法而穩定的合金。
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