磁控濺射設備系統的首要用途

（1）各種功用性薄膜：具有吸收，透射，反射，折射和偏振功用的薄膜。 例如，在低溫下堆積氮化硅抗反射膜以進步太陽能電池的光電轉化功率。

（2）在裝修范疇的使用，例如各種全反射膜和半通明膜，例如手機殼，鼠標等。

（3）作為微電子范疇的非熱鍍膜技能，首要用于化學氣相堆積（CVD）或金屬有機

（4）化學氣相堆積（CVD）難以成長而且不適合用于資料的薄膜堆積，而且可以獲得大面積的十分均勻的薄膜。

（5）在光學范疇：IF封閉場非平衡磁控濺射技能也已使用于光學薄膜（例如抗反射涂層），低輻射率玻璃和通明導電玻璃中。 特別地，通明導電玻璃現在廣泛地用于平板顯示設備，太陽能電池，微波和射頻屏蔽設備和設備以及傳感器中。

（6）在機械加工工業中，自引進以來，外表功用膜，超硬膜和自潤滑膜的外表堆積技能得到了大的發展，可以有效進步外表硬度，復合耐性，耐磨性和高耐性。 溫度化學穩定性。 功能，從而大大進步了涂層產品的使用壽命。

除了已廣泛使用的上述范疇外，磁控濺射鍍膜儀還在高溫超導薄膜，鐵電薄膜，巨磁阻薄膜，薄膜發光資料， 太陽能電池和記憶合金薄膜。

磁控濺射系統已被很多使用的范疇，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光資料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要效果。

（1）各種功用性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等效果的薄膜。例如，低溫堆積氮化硅減反射膜，以進步太陽能電池的光電轉化功率。

（2）裝修范疇的使用，如各種全反射膜及半通明膜等，如手機外殼，鼠標等。

（3）在微電子范疇作為一種非熱式鍍膜技能，首要使用在化學氣相堆積（CVD）或金屬有機。

（4）化學氣相堆積（CVD）成長困難及不適用的資料薄膜堆積，而且可以獲得大面積十分均勻的薄膜。

（5）在光學范疇：中頻閉合場非平衡磁控濺射技能也已在光學薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和通明導電玻璃等方面得到使用。特別是通明導電玻璃現在廣泛使用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽設備與器件、傳感器等。

（6）在機械加工行業中，外表功用膜、超硬膜，自潤滑薄膜的外表堆積技能自問世以來得到長足發展，能有效的進步外表硬度、復合耐性、耐磨損性和抗高溫化學穩定功能，從而大幅度地進步涂層產品的使用壽命。

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