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磁控濺射設備濺射絕緣子似乎很容易，但實際操作卻很困難。 主要問題是該反應不僅發生在零件的表面上，而且發生在陽極，真空腔的表面和目標源的表面上，這會導致滅火，目標源和表面起弧 工件。 德國萊比錫發明的雙靶技術很好地解決了這個問題。 原理是一對目標源是彼此的陰極和陽極，因此陽極表面被氧化或氮化。
在450磁控濺射中，由于運動中的電子在磁場中受到洛倫茲力，因此它們的運動軌跡會彎曲甚至產生螺旋運動，并且它們的運動路徑會變長，從而增加了與工作氣體分子碰撞的次數并產生了等離子體 堆積密度的增加，使得磁控管濺射速率大大提高，并且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，從而減少了薄膜污染的趨勢。在機械加工工業中，表面功能膜，超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術自問世以來發展迅速，可以提高表面硬度，復合韌性，耐磨性和高溫化學穩定性。 延長涂層產品的壽命。
相對準確的電磁場設計是對濺射過程中的電磁場進行模擬，而不是只對未工作時的磁控濺射設備進行電磁場模擬。電源的選擇：“電源”的選擇應根據不同的工藝過程確定，常見的有直流電源、中頻電源、射頻電源及能夠實現多種供電模式的混合型電源等。材料的選擇：對于射頻電源來說，功率的載人和匹配是非常重要的問題。大功率射頻電源的電極載入材料要求面電導率高且化學穩定性好，工業上常選用無氧銅作為電極材料。磁控靶內的材料可按磁導率的高低劃分，磁靴為高磁導率材料，一般為工業純鐵。
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