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相對準確的電磁場設計是對濺射過程中的電磁場進行模擬，而不是只對未工作時的磁控濺射設備進行電磁場模擬。
電源的選擇：“電源”的選擇應根據不同的工藝過程確定，常見的有直流電源、中頻電源、射頻電源及能夠實現多種供電模式的混合型電源等。
材料的選擇：對于射頻電源來說，功率的載人和匹配是非常重要的問題。大功率射頻電源的電極載入材料要求面電導率高且化學穩定性好，工業上常選用無氧銅作為電極材料。磁控靶內的材料可按磁導率的高低劃分，磁靴為高磁導率材料，一般為工業純鐵。
陽極與屏蔽：陽極設計要考慮空間的位置，電位關系，尺寸和面積以及陽極的材料性能，保證濺射過程穩定進行。屏蔽的設計，首先要考慮電場的設計和電位關系，防止非靶材材料被濺射，污染薄膜。其次考慮屏蔽材料的性能，一般選用飽和蒸氣壓低，濺射閾值高且符合真空工藝要求的材料。
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