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什么是直流濺射法

2023-02-28 17:56:41

直流濺射法直流濺射法要求靶材可以將從離子轟擊進程中得到的正電荷傳遞給與其嚴密接觸的陰，然后該方法只能濺射導體資料，不適于絕緣資料。因為轟擊絕緣靶材時，外表的離子...

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磁控濺射技術和設備的用途

2023-02-27 18:32:22

磁控濺射原理：電子在電場的效果下加速飛向基片的過程中與氬原子產生碰撞，電離出很多的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的效果下加速轟擊靶材，濺射出很多的靶材...

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磁控濺射技術的性能

2023-01-12 11:40:08

磁控濺射技術相關于其他成膜技術具有無法比擬的優異功用,比如沉積速度快、溫度低、環保等優異的功用,因此該技術得到了廣泛的運用,可是磁控濺射技術制備特定功用紡織品對...

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磁控濺射的生產原理

2023-01-11 17:02:41

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的效果下，在飛向基片進程中與氬原子發生磕碰，使其電離發生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場效果下加速飛向陰...

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磁控濺射的優點和缺點

2022-12-29 17:00:30

磁控濺射的優點1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小；2、對于大部分材料，只要能制成耙材，就可以實現濺射；3、濺射所獲得的薄膜與基片結合較好；4、濺射所獲得...

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磁控濺射靶材的使用率

2022-12-28 17:00:37

磁控濺射靶材的使用率可成為磁控濺射源的工程設計和生產工藝成本核算的一個參數。截止2012年，還沒有見到對磁控濺射靶材使用率專門或系統研究的報導，而從理論上對磁控...

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直流磁控濺射技術和磁控濺射設備的首要用途

2022-12-26 17:25:38

直流磁控濺射技術為了處理陰濺射的缺點，人們在20世紀70年代開發出了直流磁控濺射技術，它有用地克服了陰濺射速率低和電子使基片溫度升高的缺點，因此獲得了迅速發展和...

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磁控濺射鍍膜設備介紹

2022-12-07 17:24:34

濺射鍍膜濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子炮擊靶外表，使被炮擊出的粒子堆積在基片上的技能。通常，利用低壓惰性氣體輝光放電來產生入射離子。陰靶由鍍膜材料制成，基片作...

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磁控濺射的開展進程

2022-11-30 18:58:03

磁控濺射的開展進程：濺射堆積是在真空環境下，使用等離子體中的荷能離子炮擊靶材表面，使靶材上的原子或離子被炮擊出來，被炮擊出的粒子堆積在基體表面生長成薄膜。濺射堆...

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磁控濺射原理和材料性能

2022-11-23 18:05:42

磁控濺射原理：電子在電場的效果下加速飛向基片的過程中與氬原子發生磕碰，電離出很多的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的效果下加速轟擊靶材，濺射出很多的靶材...

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真空退火爐設備的選購技巧

2022-11-14 14:49:31

隨著社會的發展，人們對產品的要求開始精益求精。作為基礎的工序，對熱處理的精度要求也越來越重視，真空熱處理的發展慢慢的走進了人們的視線，開始對真空熱處理的重要性有...

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磁控濺射設備怎樣提高沉積速率

2022-11-11 11:18:33

磁控濺射設備提高沉積速率的原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材...

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磁控濺射鍍膜儀的鍍膜均勻

2022-11-10 11:10:46

磁控濺射鍍膜儀技術發展過程中各項技術的突破一般集中在等離子體的產生以及對等離子體進行的控制等方面。通過對電磁場、溫度場和空間不同種類粒子分布參數的控制，使膜層質...

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磁控濺射設備的常見問題如何解決

2022-11-09 13:45:24

磁控濺射設備是一種物理氣相沉積 (PVD) 工藝，是制造半導體、磁盤驅動器、CD 和光學器件的主要薄膜沉積方法。以下是磁控濺射設備中常見的問題。我們列出了可能的...

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磁控濺射鍍膜儀靶材的設計改進

2022-11-08 13:40:52

由于磁控濺射鍍膜儀的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，以達到正常濺射工作對靶材表面磁場大小的...

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磁控濺射介紹和用途

2022-11-08 17:54:33

磁控濺射是物理氣相堆積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多資料，且具有設備簡略...

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真空退火爐設備溫控要求的操控輸出

2022-11-07 16:51:13

真空退火爐設備加熱功率會受各種要素的影響，例如真空爐加熱功率的復校跟著爐子運用時間的變長，隔熱屏的熱阻會變小，電熱元件蒸發而電阻變大等要素的影響，應適當添加功率...

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真空退火爐設備的日常維護

2022-11-04 15:44:16

真空退火爐設備的日常維護內容：1、操作人員在維修之前要熟悉電爐及其輔助設備的結構和性能，配電系統、控制系統的布置及安全裝置的位置，操作工藝和安全操作規程。2、日...

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運用磁控濺射鍍膜儀對環境有什么要求嗎

2022-11-03 09:34:44

運用磁控濺射鍍膜儀對環境有什么要求嗎？由于要在特定條件下，因而磁控濺射鍍膜儀要滿意真空對環境的要求。擬定的各種磁控濺射鍍膜儀的行業規范(包括磁控濺射鍍膜儀通用技...

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磁控濺射設備怎么提高使用效率

2022-11-02 16:14:46

在使用磁控濺射設備的時候，使用通常的濺射方法，發現濺射效率都不是非常的高。為了提高濺射的效率，加快工作的進度。那么該如何加快這種設備的使用效率呢？這就需要增加氣...

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